工程陶瓷高效深磨ELID进程控制策略初探

• 作者: 吴耀 尚振涛 盛晓敏 谢桂芝
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: 高效深磨ELID磨削 工程陶瓷 进程控制数学模型 氧化膜
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 机电工程
• 页码范围: 31-36
• 分类号: TG743
• 语种: 中文

摘要

在一些合理假设的前提下,建立了砂轮表面磨粒分布的理想几何模型,并在此基础上,结合磨粒磨损特性和法拉第电解定律,以磨粒突出高度保持不变为目标,建立了工程陶瓷高效深磨ELID进程控制的数学模型,由此数学模型可推出ELID进程的控制策略.为确认此控制策略的效果,分别以由数学模型所确定的电解参数和指定的不同电解参数对氧化锆陶瓷进行高效深磨ELID磨削,并对比其磨削力和表面粗糙度变化状况.试验结果表明该控制策略能够解决工程陶瓷高效深磨ELID进程控制问题,实现连续稳定的磨削过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尚振涛	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	23	214	8.0	14.0
2	盛晓敏	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	49	811	16.0	27.0
3	谢桂芝	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	15	293	8.0	15.0
4	吴耀	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	13	370	8.0	13.0