Eu3+,Tb3+掺杂对RF磁控溅射ZnO薄膜结构的影响

• 作者: 姚丽丽 戴强钦 罗莉 董国帅 郭冠军 黄方映
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO薄膜 溅射时间 衬底温度
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 页码范围: 1494-1499
• 分类号: O484
• 字数: 3689字
• 语种: 中文

摘要

利用RF磁控溅射技术,不同条件下在不同衬底上制备了纯ZnO及Eu3+,Tb3+共掺ZnO薄膜.研究了薄膜的衬底、沉积时间和衬底温度对ZnO薄膜结构及形貌的影响.使用X射线衍射仪(XRD)对样品的结构进行了表征,结果表明:玻璃和石英衬底上的薄膜分别在300℃、镀膜0.5h和常温下、镀膜lh时薄膜具有良好的c轴择优取向,单品质量较好；而硅衬底上的薄膜在300℃、镀膜lh时具有良好的(103)轴择优取向,单品质量略有降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗莉	广东工业大学物理与光电工程学院	21	92	6.0	8.0
2	黄方映	广东工业大学物理与光电工程学院	3	17	2.0	3.0
3	戴强钦	广东工业大学物理与光电工程学院	3	17	2.0	3.0
4	姚丽丽	广东工业大学物理与光电工程学院	6	7	2.0	2.0
5	董国帅	广东工业大学物理与光电工程学院	3	11	2.0	3.0
6	郭冠军	广东工业大学物理与光电工程学院	1	2	1.0	1.0