纳米碳化硅复合化学镀镍-磷合金工艺

• 作者: 方玉霞 王秋梅 袁孝友
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀 镍-磷合金 碳化硅 纳米复合镀层 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 30-33
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 1840字
• 语种: 中文

摘要

以硫酸镍为主盐,次磷酸钠为还原剂,在铁基体上进行了化学镀Ni-P-纳米SiC.研究了镀液温度、pH及硫酸镍质量浓度对镀速的影响,得到较佳工艺条件如下:硫酸镍24～26 g/L,次磷酸钠20～35g/L,柠檬酸10～20 g/L,醋酸钠10～15 g/L,丁二酸钠2～4 g/L,纳米SiC粉体0.6g/L,pH 4.1～4.8,温度80～85℃.结果表明,获得的化学镀Ni-P-纳米SiC复合镀层为非晶态结构,其耐蚀性远大于化学镀Ni-P合金镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁孝友	安徽大学化学化工学院	30	64	5.0	7.0
2	方玉霞		3	8	1.0	2.0
3	王秋梅		1	8	1.0	1.0