溅射功率对铝铬共掺杂氧化锌透明导电薄膜特性的影响

• 作者: 刘汉法 周爱萍 张化福
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溅射功率 磁控溅射 ZnO:Al,Cr薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 页码范围: 727-730,736
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

室温下,利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌薄膜,研究了溅射功率(55-130 W)对薄膜结构、残余应力、表面形貌及其光电性能的影响.结果表明,ZnO(002)衍射峰的强度随着溅射功率的增大而增强,晶体结构得以改善.晶格常数、压应力和电阻率均随着溅射功率的增大而减小.当溅射功率为130 W时,制备的ZnO:Al,Q薄膜的最低电阻率可达1.09×lO-3Ω·em.功率由55 W增大到130 W时,光学带隙由3.39 eV增大到3.45 eV.紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光范围内平均透过率均超过89%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学理学院	52	292	11.0	13.0
3	周爱萍	山东理工大学理学院	17	53	3.0	6.0