氧化沟工艺在电子工业园区污水处理厂中的应用

• 作者: 李国炜
• 来源期刊: 给水排水
• 学科: 地球科学
• 关键词: 工业园区 污水处理厂 奥贝尔氧化沟 工艺流程 重金属
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 城镇给排水(1)
• 页码范围: 22-26
• 分类号: X703
• 字数: 6153字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8471.2011.01.005

摘要

重庆市西永微电子工业园区污水处理厂近期建设规模为3万m3／d，以处理微电子工业园区内的工业废水为主要任务。污水处理主体工艺采用强化预处理+奥贝尔(Orbal)氧化沟工艺。详细介绍了其工艺流程、主要构筑物的特点及设计参数，并总结了微电子工业园区污水处理厂设计特点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国炜		7	11	3.0	3.0