靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

• 作者: 刘增机 夏延致 张浴晖 王凤军 纪全
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 靶基距 AFM XPS 接触角
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 918-920
• 分类号: O484|O461
• 字数: 1984字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究.结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平.这种氟碳膜由-CF3-CF2-、-CF-和-C-4个组分构成,靶基距从30mm增加到813mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势.随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张浴晖	青岛大学化工学院	11	39	4.0	6.0