TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜耐H2S气体的腐蚀性能

• 作者: 郝晓培 鞠明祥 黄佳木
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 低辐射膜 TiNx/SiO2/Ag/SiO2 磁控溅射 耐腐蚀 H2S气体
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 31-33
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

为了提高玻璃片上SiO2/Ag/SiO2复合膜的耐腐蚀性能,用磁控溅射法在其上制备了TiNx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、扫描隧道显微镜(STM)研究了TiNx薄膜的结构及表面形貌;参照GB/T 5137.3-2002电子产品硫化氢腐蚀的检验方法研究了TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜耐H2S气体的腐蚀性能.结果表明:TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜中,TiNx薄膜为较致密的非晶态结构,其厚度达到10 nm以上才能对Ag膜起到很好的保护作用;低辐射膜腐蚀前后的平均透过率变化不到5%;低辐射膜被H2S气体腐蚀后的产物主要为Ag2S和H2O,水分子的生成对其腐蚀有推动作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料科学与工程学院	84	690	13.0	20.0
2	郝晓培	重庆大学材料科学与工程学院	2	10	2.0	2.0
3	鞠明祥	重庆大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0