基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数

• 作者: 廖国进 戴晓春 闫绍峰 陈明 骆红
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学常数 Swanepoel方法 Al2O3薄膜 热处理
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 229-235
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文

摘要

基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外一可见一近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在200-1100 nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556-1.76,测试波长为550nm)、低吸收和直接能量带隙(3.91-4.20 eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数--膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫绍峰	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	55	164	8.0	10.0
2	廖国进	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	38	114	6.0	9.0
3	戴晓春	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	16	35	4.0	5.0
4	陈明	辽宁工业大学机械工程与自动化学院	19	52	4.0	6.0
5	骆红		4	17	2.0	4.0