自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究

• 作者: 伍和云 凌磊婕 吕刚 吴永刚 夏子奂 王振华 陈乃波
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 自支撑薄膜 软X射线 脱模剂 磁控溅射 同步辐射
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 1-4
• 分类号: O484
• 字数: 1929字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20114001.0001

摘要

软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层NaCl做为脱膜剂,直流磁控溅射沉积Zr膜,脱膜后的到自支撑Zr膜.为防止薄膜表面氧化及空气中杂质原子进入薄膜内部,在Zr膜两面各直流磁控溅射沉积一层10 nm厚的C或Si膜作为保护膜,得到C/Zr/C、Si/Zr/Si复合膜,测试结果显示C或Si膜的引入对于自支撑Zr膜光学性能基本无影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴永刚	同济大学物理系	53	242	9.0	13.0
2	王振华	同济大学物理系	25	79	5.0	8.0
3	陈乃波	同济大学物理系	5	27	3.0	5.0
4	夏子奂	同济大学物理系	10	19	3.0	4.0
5	凌磊婕	同济大学物理系	4	7	2.0	2.0
6	吕刚	同济大学物理系	5	11	3.0	3.0
7	伍和云	同济大学物理系	5	11	3.0	3.0