调制周期对ReB2/TaN纳米多层膜的结构和力学性能影响

• 作者: 刘孟寅 刘广庆 张帅 李德军
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 射频磁控溅射 ReB2/TaN纳米多层膜 调制周期 硬度
• 年，卷（期）: 2011,（10）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 58-60,65
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2011.10.013

摘要

利用射频磁控溅射方法(衬底温度20℃)制备TaN,ReB2单层膜及ReB2/TaN纳米多层膜,并通过XRD,SEM,XP-2表面轮廓仪及纳米力学测试系统对薄膜的微结构和力学性能进行表征,分析调制周期对其影响.结果表明:TaN和ReB2均具有典型的六方结构,在其构成的多层膜中,当调制周期达到8～12nm附近时,纳米多层膜的硬度和弹性模量均高于两种材料所构成单层膜的相应值.在A=9.6nm,多层膜达到最高硬度(28.8GPa)及弹性模量(345.9GPa),同时内应力取得较好结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
2	张帅	天津师范大学物理与电子信息学院	15	21	3.0	4.0
3	刘孟寅	天津师范大学物理与电子信息学院	5	13	3.0	3.0
4	刘广庆	天津师范大学物理与电子信息学院	4	8	2.0	2.0