磁控溅射Al-Mg-B薄膜成分优化

• 作者: 吴占玲 吴爱民 姜辛 曲文超 白亦真
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Al-Mg-B薄膜 硬度 B12二十面体
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 页码范围: 628-633
• 页数: 6页
• 分类号: TB43|O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2010.00712

摘要

采用多靶磁控共溅射技术,利用高纯度Al,Mg和B单质靶材为溅射源,室温下在单晶Si(100)表面上成功制备了低摩擦系数的非晶态Al-Mg-B硬质薄膜.通过改变Al/Mg混合靶体积配比及靶材溅射功率来调控薄膜成分,最终制备的Al-Mg-B薄膜成分接近AlMgB14相的元素成分比,其Vickers硬度约为32 GPa.XRD及HR-TEM分析表明,制备的薄膜均为非晶态.XPS测试表明薄膜内部存在B-B及Al-B单键;FTIR进一步测试表明,在波数1100 cm-1处出现较为明显的振动吸收峰,证明制备的薄膜中含有B12二十面体结构,这也是薄膜具有超硬性的主要原因.薄膜摩擦磨损测试表明薄膜雌擦系数在0.07左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴爱民		38	263	10.0	15.0
2	姜辛		11	74	6.0	8.0
3	白亦真		9	18	3.0	3.0
4	曲文超		2	0	0.0	0.0
5	吴占玲		1	0	0.0	0.0