一维矩形刻槽相位栅的减反特性与结构优化

• 作者: 廖春艳 忽满利 李文慧 赵佩 马志博
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: 光栅 减反射膜 等效介质理论 矩形刻槽 占空比 蚀刻深度
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 光学器件与制造
• 页码范围: 971-975
• 分类号: TN204|O484.4
• 字数: 2716字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2082.2011.05.031

摘要

为了得到一种结构简单、便于制作的可应用于可见光波段的减反射膜,利用等效介质理论研究了表面具有矩形刻槽周期分布形式的介质膜的减反射特性,比较了4种不同基底材料的减反特性,选用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)作为基底分析了一维单层矩形光栅结构的减反射膜的占空比、蚀刻深度、入射波长和入射角度对减反射特性的影响；给出了可见光波段的减反射膜的结构设计参数.研究结果表明:当入射角小于30°时,可见光中的短波段(0.4 μm～0.55 μm)反射率低于2％；当入射角小于10°时,该减反射膜可以使0.4 μm～0.8 μm可见光的反射率低干2％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵佩	西北大学物理学系	14	46	4.0	6.0
2	忽满利	西北大学物理学系	50	406	11.0	17.0
3	廖春艳	西北大学物理学系	5	67	3.0	5.0
4	马志博	西北大学物理学系	4	17	2.0	4.0
5	李文慧	西北大学物理学系	3	10	2.0	3.0