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摘要:
采用射频磁控溅射方法在ITO基片上外延掺Ag的ZnO薄膜,分别用XRD、SEM和紫外可见光分光光度计表征外延薄膜结构、形貌和光学性质.ZnO:Ag/ITO薄膜伏安特性的研究表明,ZnO:Ag与ITO形成异质结.在紫外光波长365nm、负偏压15V情况下异质结暗电流为11.2hA,光电流为198hA,灵敏度(光电流与暗电流之比)为17.7.此异质结的紫外光响应上升时间为700ms,下降时间为1.5s.
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文献信息
篇名 异质外延ZnO掺Ag薄膜及其异质结紫外光特性的研究
来源期刊 材料导报 学科 工学
关键词 ZnO掺Ag 射频磁控溅射 异质结 响应时间
年,卷(期) 2011,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 47-50,53
页数 分类号 TN304.2|TN36
字数 2765字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 谢康 电子科技大学光电信息学院 61 258 9.0 12.0
2 蒋向东 电子科技大学光电信息学院 34 154 6.0 10.0
3 李大伟 电子科技大学光电信息学院 5 15 3.0 3.0
4 曾东 电子科技大学光电信息学院 5 11 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO掺Ag
射频磁控溅射
异质结
响应时间
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料导报
半月刊
1005-023X
50-1078/TB
大16开
重庆市渝北区洪湖西路18号
78-93
1987
chi
出版文献量(篇)
16557
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86
总被引数(次)
145687
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