直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用

• 作者: 张湘辉 汪灵 龙剑平
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 直流弧光放电 等离子体CVD 金刚石薄膜 基底托架 温度自动控制
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 75-82
• 分类号: TP273
• 字数: 6667字
• 语种: 中文

摘要

基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统.将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征.结果证明该系统具有较好的稳定性,其应用时所制备的金刚石薄膜的品质明显得到提高,具有广泛的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙剑平	成都理工大学材料与化学化工学院	55	282	9.0	13.0
5	汪灵	成都理工大学材料与化学化工学院	67	603	14.0	20.0
9	张湘辉	成都理工大学材料与化学化工学院	17	75	5.0	7.0