Ti-Si-N纳米复合薄膜KMC仿真中有效作用势的拟合

• 作者: 任元 刘学杰 孙士阳 谭心 贾慧灵
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 复合材料 有效作用势 Ti-Si-N薄膜 势能面 拟合
• 年，卷（期）: 2011,（20）
• 所属期刊栏目: 计算模拟
• 页码范围: 149-152
• 分类号: TB333
• 字数: 2535字
• 语种: 中文

摘要

为了准确地实现Ti-Si-N纳米复合薄膜生长过程动力学蒙特卡罗(KMC)仿真,采用简单原子之间的有效势拟合了第一性原理计算单粒子在TiN(001)表面的吸附作用和迁移行为.通过计算分别获得Ti、Si、N单粒子沉积在TiN(001)表面有效势的计算参数a、r0和u0.Ti、Si、N单粒子在TiN(001)表面吸附能和迁移激活能拟合相对误差均小于5％,Ti、Si、N单粒子在TiN(001)表面绕2N2Ti岛迁移激活能相对误差小于10％.对势Morse势可以描述简单键性的作用力,对于较复杂的键性其计算原子之间相互作用的准确度降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘学杰	内蒙古科技大学机械工程学院	57	114	6.0	7.0
2	孙士阳	内蒙古科技大学机械工程学院	19	25	3.0	4.0
3	谭心	内蒙古科技大学机械工程学院	46	106	5.0	7.0
4	贾慧灵	内蒙古科技大学机械工程学院	27	54	4.0	6.0
5	任元	内蒙古科技大学机械工程学院	31	62	4.0	6.0