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摘要:
在处理二维图形时需要耗费大量时间调试配方.为此,提出一种基于光刻模型的切分优化方法.采用纹波抑制的切分方法,并根据空间光强曲线的极值点分配切分片段,通过格点搜索选取方法参数,从而获得最优切分方案.实验结果表明,该方法能获得稳定的配方调试时间,且与参考配方结果相比,具有较好的光学邻近校正精度,可使边位置误差平均降低5%.
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文献信息
篇名 基于光刻模型的光学邻近校正切分优化方法
来源期刊 计算机工程 学科 地球科学
关键词 光学邻近校正 基于模型的切分 纹波抑制 格点搜索
年,卷(期) 2011,(23) 所属期刊栏目 工程应用技术与实现
研究方向 页码范围 211-213,225
页数 分类号 N945.15
字数 3534字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-3428.2011.23.072
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 史峥 浙江大学超大规模集成电路设计研究所 51 176 7.0 11.0
2 沈泫 浙江大学超大规模集成电路设计研究所 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
光学邻近校正
基于模型的切分
纹波抑制
格点搜索
研究起点
研究来源
研究分支
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计算机工程
月刊
1000-3428
31-1289/TP
大16开
上海市桂林路418号
4-310
1975
chi
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