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基于光刻模型的光学邻近校正切分优化方法
基于光刻模型的光学邻近校正切分优化方法
作者:
史峥
沈泫
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光学邻近校正
基于模型的切分
纹波抑制
格点搜索
摘要:
在处理二维图形时需要耗费大量时间调试配方.为此,提出一种基于光刻模型的切分优化方法.采用纹波抑制的切分方法,并根据空间光强曲线的极值点分配切分片段,通过格点搜索选取方法参数,从而获得最优切分方案.实验结果表明,该方法能获得稳定的配方调试时间,且与参考配方结果相比,具有较好的光学邻近校正精度,可使边位置误差平均降低5%.
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文献信息
篇名
基于光刻模型的光学邻近校正切分优化方法
来源期刊
计算机工程
学科
地球科学
关键词
光学邻近校正
基于模型的切分
纹波抑制
格点搜索
年,卷(期)
2011,(23)
所属期刊栏目
工程应用技术与实现
研究方向
页码范围
211-213,225
页数
分类号
N945.15
字数
3534字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-3428.2011.23.072
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
史峥
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
51
176
7.0
11.0
2
沈泫
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
1
0
0.0
0.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
光学邻近校正
基于模型的切分
纹波抑制
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
计算机工程
主办单位:
华东计算技术研究所
上海市计算机学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-3428
CN:
31-1289/TP
开本:
大16开
出版地:
上海市桂林路418号
邮发代号:
4-310
创刊时间:
1975
语种:
chi
出版文献量(篇)
31987
总下载数(次)
53
总被引数(次)
317027
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