制作平面全息光栅的离轴抛物镜/洛埃镜干涉系统

• 作者: 崔继承 巴音贺希格 李文昊 邵先秀 齐向东
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 平面全息光栅 离轴抛物镜 洛埃镜 干涉系统
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 56-63
• 分类号: TH744.3|O438.1
• 字数: 3782字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111901.0056

摘要

设计和制作具有较高波前平面度和结构稳定的干涉曝光系统是研制高质量平面全息光栅的首要条件.对离轴抛物镜/洛埃镜系统、单透镜/洛埃镜系统、球面反射镜/洛埃镜系统和双分离透镜/洛埃镜系统等4种单反射镜干涉曝光系统产生的干涉条纹直线度进行了光线追迹.在干涉场中放置标准光栅,使用于曝光的两束平行光入射到光栅上,从而衍射光相干叠加产生莫尔条纹;并对上述4个系统产生的莫尔条纹做了模拟.利用Zernike多项式对莫尔条纹进行拟合得到干涉曝光系统的波前像差,比较了4个系统的差异.结果表明,采用离轴抛物镜/洛埃镜系统制作中、小口径平面全息光栅是最为合适的.在此基础上,研制了用于制作最大尺寸为110 mm×110 mm,刻线密度>1 200 l/mm的平面全息光栅的离轴抛物镜/洛埃镜干涉曝光系统,在洛埃镜和离轴抛物镜面形精度为λ/8(λ=632.8 nm)的前提下,平面全息光栅的衍射波前像差为0.239 6λ(λ=550 nm).此系统经过消除外界扰动和精细装调后,可用于制作衍射波前像差达λ/6～λ/7(λ=550 nm)以上的平面全息光栅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	李文昊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	35	144	7.0	11.0
3	齐向东	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	61	630	16.0	22.0