高损伤阈值三倍频分离膜

• 作者: 丁涛 张锦龙 焦宏飞 王孝东 程鑫彬 马彬
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 三倍频分离膜 电子束蒸发 激光损伤阈值 光学薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1882-1884
• 分类号: O484.4
• 字数: 1559字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112307.1882

摘要

设计了Nd:YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2.经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99％以上,在532 nm和1064 nm处透射率也在99％以上.采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接近.分离膜在355 nm激光辐照下的损伤阈值为5.1 J/cm2,并用微分干涉显微镜表征了薄膜损伤形貌.