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MII带来纳米压印技术的革新
MII带来纳米压印技术的革新
作者:
王蔚斯
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米压印技术
MII
革新
半导体光刻
掩膜板
市场
驱动
摘要:
去年全球半导体光刻掩膜板市场已达到了30亿元规模,驱动这一市场成长的关键主要来自于先进技术持续进行微缩
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纳米晶岛
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篇名
MII带来纳米压印技术的革新
来源期刊
电脑与电信
学科
工学
关键词
纳米压印技术
MII
革新
半导体光刻
掩膜板
市场
驱动
年,卷(期)
2011,(12)
所属期刊栏目
全球IT新浪潮
研究方向
页码范围
1-3,6
页数
分类号
TN305.7
字数
3812字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1008-6609.2011.12.001
五维指标
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被引次数趋势
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纳米压印技术
MII
革新
半导体光刻
掩膜板
市场
驱动
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电脑与电信
主办单位:
广东省对外科技交流中心
出版周期:
月刊
ISSN:
1008-6609
CN:
44-1606/TN
开本:
大16开
出版地:
广州市连新路171号国际科技中心B108室
邮发代号:
创刊时间:
1995
语种:
chi
出版文献量(篇)
8962
总下载数(次)
13
总被引数(次)
9565
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