化学镀铁工艺中络合剂用量的优化实验

• 作者: 万小波 何为 张云望 张敏 张林 李林泽 杜凯 胡文成
• 来源期刊: 实验科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀铁 黑腔 复合络合剂 正交试验
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 实验技术
• 页码范围: 4-6
• 分类号: TQ153|G642.423
• 字数: 2768字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4550.2011.06.002

摘要

通过化学镀铁工艺构建应用于惯性约束核聚变实验用铁黑腔,在化学镀铁镀液配方中,络合剂是镀速和镀层孔隙率重要的影响因素。文中首先通过单一络合物实验初步得出了柠檬酸钠、乳酸和丙酸的初步范围,并通过正交试验优化了化学镀铁溶液中各络合物浓度,并讨论了不同浓度的络合剂对镀速和镀层孔隙率的影响关系。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡文成	电子科技大学微电子与固体电子学院	27	235	9.0	14.0
2	何为	电子科技大学微电子与固体电子学院	200	994	12.0	23.0
3	杜凯	中国工程物理研究院激光聚变中心	72	527	11.0	19.0
4	万小波	中国工程物理研究院激光聚变中心	25	174	9.0	12.0
5	张敏	电子科技大学微电子与固体电子学院	40	184	7.0	11.0
6	张云望	中国工程物理研究院激光聚变中心	9	24	3.0	4.0
7	李林泽	电子科技大学微电子与固体电子学院	2	5	2.0	2.0