不同灌水下限对温室茼蒿生长和产量的影响

• 作者: 杨文斌 王凤新 胡佳林 苏利茂 要晋峰 郝仲勇 麻军
• 来源期刊: 农业工程学报
• 学科: 农学
• 关键词: 温室 灌溉 试验 茼蒿 产量 灌水量 灌水下限
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 94-98
• 页数: 5页
• 分类号: S274.4|S275.5
• 字数: 5065字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-6819.2011.01.014

摘要

该文采用15 cm深处土水势为茼蒿的控制灌水下限,研究在模拟微喷条件下控制灌水下限对温室茼蒿生长和产量的影响.共设6个处理,灌水下限分别是-10 kPa(T1),-15 kPa(T2),-20 kPa(T3),-25 kPa(T4),-30 kPa(T5)和-40 kPa(T6).结果表明,不同的灌水下限对茼蒿产量的影响显著,灌水下限为控制在-15 kPa是产量最高,分别比其他处理增加了0.5%,18.7%,62.6%,73.4%,71.7%,在整个生育期灌水量为195 mm,比与其产量相近的T1处理节水56.4%.T2处理的株高和生长速率在生长后期与T1无差异.灌水下限低于-25 kPa,水分亏缺严重,影响出苗,不利于茼蒿生长.以-15 kPa土水势作为控制灌水下限,有利于茼蒿生长,可以达到高产、节水的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝仲勇		51	587	16.0	23.0
2	王凤新	中国农业大学中国农业水问题研究中心	30	359	10.0	18.0
3	杨文斌	中国农业大学中国农业水问题研究中心	1	30	1.0	1.0
4	苏利茂		1	30	1.0	1.0
5	要晋峰		1	30	1.0	1.0
6	麻军		1	30	1.0	1.0
7	胡佳林		1	30	1.0	1.0