薄膜厚度对 Mn-W 共掺杂 ZnO 透明导电薄膜性能的影响

• 作者: 刘汉法 刘瑞金 张化福
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜厚度 Mn-W 共掺杂 ZnO 透明导电薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 166-169,175
• 分类号: TN304.2
• 字数: 1773字
• 语种: 中文

摘要

利用直流磁控溅射法在低温玻璃衬底上制备了高导电透明的 Mn-W 共掺杂 ZnO(ZMWO)薄膜,并研究了厚度对薄膜结构、光学及电学性能的影响.X 射线衍射结果表明 ZMWO 均为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的 c 轴择优取向.薄膜厚度对 ZMWO 薄膜的晶化程度、电阻率和方块电阻有很大影响.当薄膜厚度从97 nm 增大到456 nm 时,ZMWO 薄膜的晶化程度提高,而电阻率和方块电阻减小.当厚度为 456 nm 时,所制备ZMWO 薄膜的电阻率达到最小,其值仅为8.8×10-5 Ω·cm,方块电阻为1.9 Ω/□.所有薄膜样品在可见光区的平均透过率都较高,其值约为89%.当薄膜厚度从97 nm 增大到 456 nm时,光学带隙从3.41 eV增大到3.52 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学理学院	52	292	11.0	13.0
3	刘瑞金	山东理工大学理学院	26	120	5.0	10.0