靶功率对射频磁控溅射制备MoS2-Sb2O3复合薄膜结构和性能的影响

• 作者: 万志华 周晖 张延帅 桑瑞鹏 郑军
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 MoS2-Sb2O3复合薄膜 靶功率 结构和性能
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 70-74
• 分类号: TH117.1
• 字数: 3481字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2011.07.017

摘要

采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜,研究靶功率对薄膜性能和结构的影响.利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构,用CSM薄膜综合性能仪测试薄膜的硬度及附着力,通过承载力试验测试薄膜的承载性能,使用真空球—盘摩擦试验机测试真空和大气下薄膜的摩擦因数及耐磨寿命.结果表明:使用射频磁控溅射制备的MoS2Sb2O3复合薄膜具有准非晶结构,其薄膜结构和成分受沉积时的靶功率影响；MoS2 -Sb2O3复合薄膜在真空下具有比大气下更稳定的摩擦学性能,更长的耐磨寿命；提高溅射原子能量能有效地提高MoS2-Sb2O3复合薄膜的承载性能,减少薄膜的内应力,提高薄膜的附着力,提高薄膜的耐磨寿命.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周晖	兰州物理研究所表面工程技术重点实验室	13	139	6.0	11.0
2	万志华	兰州物理研究所表面工程技术重点实验室	10	46	5.0	6.0
3	郑军	兰州物理研究所表面工程技术重点实验室	8	26	3.0	4.0
4	桑瑞鹏	兰州物理研究所表面工程技术重点实验室	8	42	4.0	6.0
5	张延帅	兰州物理研究所表面工程技术重点实验室	1	3	1.0	1.0