AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程

• 作者: 刘锋 单大勇 宋影伟 韩恩厚
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化膜 锆氧化物 MgO 耐腐蚀性
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 943-948
• 分类号: TG174.451
• 字数: 308字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(11)60805-4

摘要

采用扫描电镜(SEM)和电子衍射能谱(EDX)研究在含K2ZrF6的溶液中AM50镁合金表而复合微弧体氧化涂层的形成过程.采用电化学阻抗谱(EIS)研究在微弧体氧化制备膜层过程中膜层耐腐蚀性能的变化.结果表明:当电压小于起弧电压时,合金表面膜层的主要成分为MgO和MgF3;当施加电压超过起弧电压时,锆氧化物开始在合金表面沉积,且膜层的耐腐蚀性随着电压的升高而提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩恩厚	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	206	4305	30.0	59.0
2	刘锋	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	70	1610	19.0	39.0
3	单大勇	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	20	640	10.0	20.0
4	宋影伟	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	12	168	7.0	12.0