掺铝α-氢氧化钴的制备及其电化学性能研究

• 作者: 常艳琴 张子瑜 杨玉英 王欢文 胡中爱 陈艳丽
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 化学
• 关键词: 片状α-氢氧化钴 铝掺杂 化学共沉淀 电化学电容
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 47-51
• 分类号: O614.812
• 字数: 4355字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2011.07.017

摘要

以氯化钴和硝酸铝为原料、聚乙二醇为结构导向剂,采用化学共沉淀法制备成片状掺铝α-氢氧化钴.用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(SEM)对样品的结构和形貌进行了表征;用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)对样品的成分进行了测定;用循环伏安、恒电流充放电等方法对其电化学性能进行了测试.测试结果表明,钴与铝的摩尔比时目标产物的电化学电容行为有显著的影响.当钴与铝的摩尔比为8:2时,产品的电化学电容性能最佳,其比电容高达1108F/g,500次充放电循环后,比电容相对于初始值仅衰减了6.9%.