硅掺杂辉光放电聚合物薄膜的热稳定性研究

• 作者: 何智兵 张颖 李萍 闫建成
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 硅掺杂辉光放电聚合物薄膜 X射线光电子能谱 热稳定性
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：结构、力学和热学性质
• 页码范围: 416-420
• 分类号: O461.21
• 字数: 3250字
• 语种: 中文

摘要

采用等离子体辉光放电聚合技术,在不同四甲基硅烷（TMS）流量条件下制备了硅掺杂辉光放电聚合物（Si-GDP）薄膜,采用傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱和热重（TG）分析技术分析了不同TMS流量对Si-GDP薄膜结构与热稳定性的影响.结果表明：随着TMS流量在0—0.06cm3/min范围变化,Si-GDP薄膜中Si的原子含量CSi为0—16.62%;含Si红外吸收峰的相对强度随TMS流量的增加而明显增大;Si-GDP薄膜的TG分析显示,温度在300℃时,随TMS流量的增加,Si-GDP薄膜的失重减少,热稳定性增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李萍	四川大学原子与分子物理研究所	196	1039	14.0	22.0
2	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0
3	闫建成	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	7	27	4.0	4.0