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摘要:
本文针对RD和CS两种成像算法处理流程和方法的差异,分析了两种算法在移频干扰情况下的成像处理增益,并推导了两种算法的信干比处理增益公式.理论分析结果表明,在距离向采样率与SAR信号带宽相当的情况下,RD成像算法对移频干扰的抑制能力强于CS算法;在方位向过采样情况下,RD算法由于采用两维匹配处理从而获得比CS算法大的信干比处理增益,若对信号进行方位向滤波处理后,CS算法的对移频干扰的抗干扰能力与RD算法相当.最后,通过计算机仿真验证了本文的理论分析和结论.
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文献信息
篇名 基于移频干扰的成像算法抗干扰性能分析
来源期刊 电子学报 学科 工学
关键词 合成孔径雷达 移频干扰 成像算法 信干比 成像处理增益
年,卷(期) 2011,(z1) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 47-51
页数 分类号 TN957.52
字数 3670字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 禹卫东 中国科学院电子学研究所 122 929 15.0 24.0
2 曹鹏 14 58 4.0 7.0
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移频干扰
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