离子束溅射制备Nb2O5光学薄膜的特性研究

• 作者: 刘旭 沈伟东 章岳光 袁文佳 马群
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Nb2O5薄膜 离子束溅射 光学特性 应力
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 681-686
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文

摘要

研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb2O5薄膜的光学特性、应力、薄膜微结构等特性,系统地分析了辅助离子源的离子束能量和离子束流对薄膜特性的影响.结果显示,在辅助离子源不同参数情况下,折射率在波长550 nm处为2.310-2.276,应力值为-281-152 MPa.在合适的工艺参数下,消光系数可小于10-4,薄膜具有很好的表面平整度.与用离子辅助沉积(IAD)制备的薄膜相比,IBS制备的薄膜具有更好的光学特性和薄膜微结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈伟东	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	39	296	8.0	16.0
2	刘旭	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	214	1718	22.0	32.0
3	章岳光	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	40	424	12.0	20.0
4	马群	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	6	12	2.0	3.0
5	袁文佳	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	5	8	1.0	2.0