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摘要:
本文利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法系统地研究了p-AlGaN层掺杂机理及优化设计生长.明确了生长温度、压力及TMAl的流量对AlGaN层Al组分的影响关系,并给出了各自不同的机理与作用.研究发现,Al组分介于10%-30%之间能够很好地将电子限定在量子阱区域并保持高的材料晶体质量.发展了一种新的生长技术来克服p-AlGaN层掺入效率低下和空穴注入不足的问题.优化条件下生长的p型AlGaN电子阻挡层很大地提升了InGaN/GaN基LED的输出光功率.
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文献信息
篇名 GaN基发光二极管外延中p型AlGaN电子阻挡层的优化生长
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 氮化镓基 LED Al组分 电子阻挡层
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、力学和热学性质
研究方向 页码范围 473-478
页数 分类号 O471
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王兵 中国科学院半导体研究所半导体照明研发中心 106 880 14.0 24.0
2 王国宏 中国科学院半导体研究所半导体照明研发中心 41 1911 17.0 41.0
3 姚然 中国科学院半导体研究所半导体照明研发中心 10 44 4.0 6.0
4 梁萌 中国科学院半导体研究所半导体照明研发中心 5 64 3.0 5.0
5 李志聪 中国科学院半导体研究所半导体照明研发中心 1 3 1.0 1.0
6 闫发旺 中国科学院半导体研究所半导体照明研发中心 1 3 1.0 1.0
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LED
Al组分
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物理学报
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