晶体硅太阳电池减反射膜的研究

• 作者: 赵萍 邹美玲 麻晓园
• 来源期刊: 现代电子技术
• 关键词: 太阳电池 PECVD 减反射 氮化硅薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 新型功率器件
• 页码范围: 145-147,151
• 分类号: TN919-34
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-373X.2011.12.043

摘要

在太阳电池表面形成一层减反射薄膜是提高太阳电池的光电转换效率比较可行且降低成本的方法.应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统,采用SiH4和NH3气源以制备氮化硅薄膜.研究探索了PECVD生长氮化硅薄膜的基本物化性质以及在沉积过程中反应压强、反应温度、硅烷氨气流量比和微波功率对薄膜性质的影响.通过大量实验,分析了氮化硅薄膜的相对最佳沉积参数,并得出制作减反射膜的优化工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵萍	西安邮电学院电子工程学院	17	89	6.0	8.0