关键因素对化学镀铁镀速的影响研究

• 作者: 万小波 何为 张云望 张敏 张林 李林泽 杜凯 胡文成
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀铁 离子钯 影响因素 镀速
• 年，卷（期）: 2011,（22）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 88-91
• 分类号: TQ153
• 字数: 3863字
• 语种: 中文

摘要

以有机玻璃为镀件,通过化学镀铁工艺构建了应用于惯性约束核聚变实验的铁黑腔.采用离子钯为活性剂,考察了氯化钯质量浓度对镀层覆盖率的影响；详细研究了镀液中主盐硫酸亚铁、还原剂硼氢化钠和缓冲剂硼酸、工艺条件(pH值和温度)对镀速的影响规律.实验结果表明,随着镀液中主盐和还原剂质量浓度的增加,镀速明显加快；而缓冲剂对镀速的影响相对较小；随着pH值和温度的升高,镀速也明显加快.对相应的影响机制进行了探讨,为最终建立动力学方程打下了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡文成	电子科技大学微电子与固体电子学院	27	235	9.0	14.0
2	何为	电子科技大学微电子与固体电子学院	200	994	12.0	23.0
3	杜凯	中国工程物理研究院激光聚变中心	72	527	11.0	19.0
4	万小波	中国工程物理研究院激光聚变中心	25	174	9.0	12.0
5	张敏	电子科技大学微电子与固体电子学院	40	184	7.0	11.0
6	张云望	中国工程物理研究院激光聚变中心	9	24	3.0	4.0
7	李林泽	电子科技大学微电子与固体电子学院	2	5	2.0	2.0