溅射功率对AZO透明导电薄膜的影响

• 作者: 史永胜 宁磊 宁青菊 秦双亮 陈阳阳
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: AZO 射频磁控溅射 溅射功率 方阻 透射率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 42-44
• 分类号: TB383.2
• 字数: 2169字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,并用原子力显微镜观测了薄膜表面形貌,XRD测试了薄膜相结构和单色仪测试了薄膜透射率.结果表明,制备的薄膜具有高度c轴择优取向性,其表面平整,晶粒均匀致密.当溅射功率为180W、溅射气体流量为15sccm、基片温度为200℃时制得的薄膜方阻为10Ω/□,在可见光区平均透射率大于85%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史永胜	陕西科技大学电气与信息工程学院	69	433	9.0	18.0
2	宁青菊	陕西科技大学电气与信息工程学院	44	317	10.0	16.0
3	宁磊	陕西科技大学电气与信息工程学院	7	143	5.0	7.0
4	陈阳阳	陕西科技大学电气与信息工程学院	5	98	3.0	5.0
5	秦双亮	陕西科技大学电气与信息工程学院	1	8	1.0	1.0