脉冲激光沉积纳米硅晶粒流体模型的推广

• 作者: 丁学成 傅广生 梁伟华 王英龙 翟小林 褚立志 邓泽超 郭瑞强
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米硅晶粒 脉冲激光烧蚀 惯性流体模型 尺寸分布
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 737-741
• 分类号: TN304.12|TN249
• 语种: 中文

摘要

Yoshida等人提出的惯性流体模型只能解释脉冲激光烧蚀制备纳米硅晶粒平均尺寸随环境气压的变化规律.在此模型基础上,考虑到烧蚀粒子的初始速度分布(Maxwell分布),得到了纳米硅晶粒尺寸分布的解析表达式,数值模拟结果与Yoshida等人在不同环境氦气压下制备样品的晶粒尺寸分布的实验统计数据基本相符.还利用修正后的模型对不同环境气体种类(氦、氖、氩)中制备的纳米Si晶粒尺寸分布进行了模拟,模拟结果与实验数据相符.结论可为实现纳米硅晶粒尺寸的均匀可控提供理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	邓泽超	河北大学物理科学与技术学院	48	123	6.0	8.0
3	褚立志	河北大学物理科学与技术学院	47	155	7.0	10.0
4	丁学成	河北大学物理科学与技术学院	44	89	5.0	7.0
5	梁伟华	河北大学物理科学与技术学院	36	92	6.0	8.0
6	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
7	翟小林	河北大学物理科学与技术学院	3	6	1.0	2.0
8	郭瑞强	河北大学物理科学与技术学院	3	7	1.0	2.0