漏致势垒降低效应对短沟道应变硅金属氧化物半导体场效应管阈值电压的影响

• 作者: 宋建军 屈江涛 张鹤鸣 王冠宇 王晓艳 秦珊珊
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 应变硅金属氧化物半导体场效应管 漏致势垒降低 二维泊松方程 阈值电压模型
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 558-564
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

结合应变硅金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)结构,通过求解二维泊松方程,得到了应变Si沟道的电势分布,并据此建立了短沟道应变硅NMOSFET的阈值电压模型.依据计算结果,详细分析了弛豫Si1-βGeβ中锗组分β、沟道长度、漏电压、衬底掺杂浓度以及沟道掺杂浓度对阈值电压的影响,从而得到漏致势垒降低效应对小尺寸应变硅器件阈值电压的影响,对应变硅器件以及电路的设计具有重要的参考价值.