西葫芦抹瓜技术

• 作者: 魏彩云
• 来源期刊: 农村百事通
• 学科: 农学
• 关键词: 西葫芦 黄瓜 生长调节剂 技术 果实发育 葫芦瓜 不均匀 对称
• 年，卷（期）: 2011,（23）
• 所属期刊栏目: 种植园地
• 页码范围: 35-35
• 分类号: S642.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-9119.2011.23.036

摘要

西葫芦不像黄瓜、番茄等采取蘸花的方法促进果实发育．而是采取在瓜体两侧对称涂抹生长调节剂的方法。但很多种植户在用生长调节剂涂抹西葫芦瓜体两侧时没有注意对称抹瓜，或者是在抹瓜时两侧涂抹长度、宽度不同，造成生长调节剂涂抹不均匀．导致西葫芦瓜体一侧生长快而另一侧生长相对较慢．以致出现弯瓜。因此，在为西葫芦抹瓜时应注意对称抹．还应注意瓜体两侧涂抹的长度及宽度要一致，不可一侧涂抹过多．而另一侧涂抹较少。如果涂抹不均匀．应及时采取补救措施，在瓜弯曲一侧再轻抹一道。

作者信息

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1	魏彩云		5	0	0.0	0.0