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摘要:
针对硅材料和硅基器件辐照损伤机理之间存在的矛盾,采用对单结晶体管基区电阻实时监测的方法,得到单结晶体管基区阻值随γ射线辐照剂量的增加先减小后增大的规律.结合国内外硅材料和器件的辐照理论,从γ射线与物质的微观作用分析,提出单结晶体管基区主要的γ射线辐照机制位移效应较电离效应具有一定滞后性的观点,解决了原有矛盾,对器件加固的研究具有重要意义.
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文献信息
篇名 硅单结晶体管γ射线辐照电阻变化规律研究
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 单结晶体管 γ射线 实时监测 基区电阻
年,卷(期) 2011,(2) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 750-755
页数 分类号 O4
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜磊 西安电子科技大学技术物理学院 99 486 13.0 18.0
2 何亮 西安电子科技大学技术物理学院 36 212 7.0 14.0
3 包军林 西安电子科技大学大学徽电子学院 43 306 10.0 16.0
4 赵鸿飞 西安电子科技大学技术物理学院 3 7 2.0 2.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
单结晶体管
γ射线
实时监测
基区电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
论文1v1指导