Hall推力器内饱和鞘层下电子与壁面碰撞频率特性

• 作者: 丁永杰 张凤奎
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 饱和 鞘层 碰撞 频率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 气体、等离子体和放电物理
• 页码范围: 459-463
• 分类号: O441
• 语种: 中文

摘要

利用二维粒子模拟方法研究Hall推力器内电子与壁面的碰撞频率.研究发现,饱和鞘层状态下的电子与壁面的碰撞频率较经典鞘层下大大增加,甚至高出经典鞘层状态下电子与壁面碰撞频率两个数量级,这样饱和鞘层状态下电子与壁面的碰撞频率对近壁电流的贡献将不容忽略.进一步分析造成饱和鞘层状态下电子与壁面碰撞频率增加的原因后认为,饱和鞘层状态下电子与壁面碰撞频率的增加是鞘层电势降过低和壁面发射的二次电子同流造成的.