355nm纳秒紫外激光辐照下熔石英前后表面损伤的对比研究

• 作者: 刘红婕 吴卫东 周信达 王凤蕊 蒋晓东 郑万国 黄竞 黄进
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 熔石英 激光诱使损伤 阴影成像技术 光学元件表面
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 气体、等离子体和放电物理
• 页码范围: 453-458
• 分类号: TN249
• 语种: 中文

摘要

为了理解前后表面损伤不对称性的物理内涵,利用阴影成像技术研究了纳秒紫外激光诱使熔石英光学元件表面损伤的时间分辨动力学过程.研究表明,纳秒紫外激光与熔石英作用过程中前后表面损伤的物理机理是完全不同的.前表面处空气中等离子体和冲击波较强,等离子体的屏蔽作用抑制了余脉冲能量的沉积,降低了元件损伤程度.而后表面处等离子体吸收激光能量膨胀,对后表面冲击作用更为严重,形成的等离子体电子密度可达到1023cm-3以上,反射部分激光能量与入射的激光余脉冲干涉,使得损伤更为严重.研究结果对理解损伤的机理有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘红婕	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	22	184	8.0	12.0
2	黄进	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	20	138	7.0	11.0
3	周信达	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	7	67	3.0	7.0
4	王凤蕊	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	11	93	5.0	9.0
5	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
6	蒋晓东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	47	476	14.0	19.0
7	黄竞	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	2	25	1.0	2.0