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摘要:
采用磁控溅射技术在镀Mo玻璃基片上沉积Cu-In金属预制膜后在N2气氛下硫化制备CuInS2薄膜.研究热处理硫化时间对CuInS2薄膜的表面形貌和晶相结构性能的影响.利用场发射扫描电镜(FE-SEM)、X射线衍射(XRD)和Raman光谱等测试手段对薄膜的表面形貌和晶相结构进行表征.实验结果表明,采用磁控溅射金属预制膜经适当的时间硫化所制备的CuInS2薄膜为黄铜矿结构,随着硫化时间的增加,CuInS2薄膜的晶粒的形貌由球形结构向片状结构转化,并且硫化时间越长,所得薄膜的结晶性能越好,但过长的硫化时间会生成Cu-Au相而导致薄膜质量的劣化.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 硫化时间对CuInS2薄膜微结构的影响
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 磁控溅射 CuInS2薄膜 固态源硫化法 微观结构
年,卷(期) 2012,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 20-23
页数 分类号 O484
字数 2095字 语种 中文
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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