双面抛光机上研磨盘振动抑制的半主动控制方法

• 作者: 周芬芬 徐慧鑫 程城远 赵文宏 陈晨
• 来源期刊: 机电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 双面抛光机 上研磨盘 振动抑制 磁流变阻尼器 半主动控制
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 机械、仪表技术
• 页码范围: 1255-1258
• 分类号: TG356.28|TH39
• 字数: 3783字
• 语种: 中文

摘要

振动是影响超精密加工质量的关键因素之一,弹簧加压式双面抛光机在抛光过程中的上研磨盘振动现象严重制约了产品的加工精度.为解决这一问题,提出了在弹簧加压装置中加入磁流变阻尼器的方法,通过控制磁流变阻尼器阻尼系数来实现对双面抛光和上研磨盘振动的半主动控制,以达到抑制振动的效果.首先,对改进后的压力加载系统进行了数学建模,得到了抛光过程中上研磨盘的运动方程式;接着,对半主动控制的控制策略进行了设计,得到了其控制算法;最后,在Simulink中对半主动控制策略下的系统进行了仿真分析,并将其仿真结果与未加控制时的系统仿真结果进行了比较分析.比较分析结果表明,所设计的半主动控制方法能够有效抑制双面抛光机上研磨盘的振动现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵文宏	浙江工业大学机械工程学院	35	279	9.0	15.0
2	徐慧鑫	浙江工业大学机械工程学院	3	41	1.0	3.0
3	陈晨	浙江工业大学机械工程学院	15	68	4.0	8.0
4	周芬芬	浙江工业大学机械工程学院	11	85	5.0	9.0
5	程城远	浙江工业大学机械工程学院	2	14	1.0	2.0