应用性极薄铜薄膜电阻的自动测量

• 作者: 朱均强 李耀俊 潘李宜基 王志文
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 真空技术 薄膜生长 薄膜电阻 自动化测量
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 测量与控制
• 页码范围: 28-32
• 分类号: TB79
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.01.007

摘要

本文采用实时测量方法,测量了铜薄膜导电时的电阻.利用监测电阻状态可制作极薄的膜材.与接近块状薄膜相比较,导电性能有所不同.测量了真空下与常态下其随时间变化状况,观察到其形成后有波动的状态.使用光学干涉法测定了可作为常规电极极限态薄膜尺寸约为90 nm左右,其导通电流极限约为0.0290 A/mm,在大气中氧化过程极快,电阻也迅速增加,也更容易受到大电流的破坏.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志文	广西民族大学物理与电子工程学院	26	69	5.0	7.0
2	李耀俊	广西民族大学物理与电子工程学院	31	66	4.0	8.0
3	潘李宜基	广西民族大学物理与电子工程学院	3	7	2.0	2.0
4	朱均强	广西大学物理科学与工程技术学院	1	0	0.0	0.0