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摘要:
提出了一种基于0.25 μm BCD工艺、适用于高压降压型DC-DC转换器的新型电平位移电路.该电路使用了耐压60 V的高压DMOS器件(HVNMOS、HVPMOS)、耐压5V的低压CMOS器件(LVNMOS、LVPMOS),以及耐压5V的三极管器件(BJT).分析了降压型DC-DC转换器对电平位移电路的特殊要求;基于对两种常见电平位移电路的分析,提出了一种新型的电平位移电路.电路仿真结果显示,与之前的电路相比,新型电路结构具有响应快速、功耗低、输出电平精确、可靠性高等优点.
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文献信息
篇名 一种基于BCD工艺的高速低功耗电平位移电路
来源期刊 微电子学 学科 工学
关键词 BCD工艺 降压型DC-DC转换器 电平位移电路
年,卷(期) 2012,(1) 所属期刊栏目 电路与系统设计
研究方向 页码范围 63-66
页数 分类号 TN43
字数 2294字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-3365.2012.01.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗萍 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 74 534 11.0 20.0
2 甄少伟 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 36 122 6.0 9.0
3 王曾 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 5 20 2.0 4.0
4 庞振洋 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 1 4 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
BCD工艺
降压型DC-DC转换器
电平位移电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学
双月刊
1004-3365
50-1090/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号24所
1971
chi
出版文献量(篇)
3955
总下载数(次)
20
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