分子流状态平面密封结构漏率预估

• 作者: 巫宗萍 李超 杜海深 杜秋华
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 平面密封 Roth模型 分子流 漏率预估
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 测量与控制
• 页码范围: 36-38
• 分类号: TH136
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.01.009

摘要

本文结合Roth模型建立了分子流状态下的漏率计算模型,得出了平面密封泄漏漏率与密封力 矩、密封面粗糙度之间的对应关系,同时还给出为保证分子流状态,密封力矩、密封面粗糙度应满足的条件.在理论计算的同时,还通过实验证明了漏率预估方法的准确性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李超	中国工程物理研究院总体工程研究所	29	238	7.0	14.0
2	巫宗萍	中国工程物理研究院总体工程研究所	10	42	4.0	6.0
3	杜秋华	中国工程物理研究院总体工程研究所	5	24	4.0	4.0
4	杜海深	中国工程物理研究院总体工程研究所	3	7	2.0	2.0