负偏压对多弧离子镀TiN薄膜的影响

• 作者: 张维 王成磊 蔡航伟 袁琳 马志康 高原
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 负偏压 TiN薄膜 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 20-22,26
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2012.01.006

摘要

采用不同偏压,在201不锈钢表面进行多弧离子镀TiN薄膜,研究了偏压对薄膜表面形貌、硬度、相结构及耐蚀性的影响.研究表明:薄膜表面存在着许多液滴颗粒,随着偏压的增加,液滴减少,但过大的偏压会使表面出现凹坑；薄膜的显微硬度随偏压的升高先增大后减小,偏压为-200 V时的本征硬度为2 195HV；在3.5％的NaCl溶液中,TiN薄膜试样的耐蚀性比基体略有提高,在1 mol/L的H2SO4溶液中,偏压-100 V制备的试样耐蚀性最好,比基材提高了475倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高原	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	145	940	14.0	24.0
2	王成磊	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	69	275	9.0	12.0
3	张维	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	13	83	6.0	8.0
4	袁琳	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	12	86	6.0	9.0
5	马志康	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	15	85	5.0	8.0
6	蔡航伟	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	17	92	5.0	8.0