真空蒸镀Nd:YAG薄膜的工艺研究

• 作者: 任豪 刘颂豪 周永恒 曾群
• 来源期刊: 材料科学
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子束蒸发 Nd:YAG薄膜
• 年，卷（期）: clkx_2012,（1）
• 页码范围: 42-46
• 页数: 5页
• 分类号: O48

摘要

本文采用真空电子束蒸发镀膜工艺制备Nd:YAG薄膜,结合XRD、SEM等手段分析研究不同衬底材料、镀膜材料以及退火温度对薄膜材料结构的影响,并分析测试了Nd:YAG薄膜的光致发光特性。镀膜材料为Nd:YAG粉体块,Si片上沉积的Nd:YAG薄膜材料,经1100?C退火后,具有单一YAG晶相结构,薄膜结晶晶粒均匀细小,并在室温下测试获得1064 nm主荧光峰的宽带荧光光谱。