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双面PSD器件的工艺研究
双面PSD器件的工艺研究
作者:
刘善喜
汪继芳
简崇玺
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
双面PSD
双面光刻
氧化
扩散
摘要:
双面PSD器件具有很高的灵敏度、良好的瞬态响应特性、紧密的结构以及简单的处理电路等优点。介绍了PSD器件的制作技术。重点介绍了利用微细加工技术进行双面两侧分流电极型PSD的制作,解决了双面对准光刻技术的工艺难题,为双面高精度PSD器件的制作提供了一条工艺技术途径。
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文献信息
篇名
双面PSD器件的工艺研究
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
双面PSD
双面光刻
氧化
扩散
年,卷(期)
2012,(2)
所属期刊栏目
微组装
研究方向
页码范围
93-95,109
页数
4页
分类号
TP212
字数
3240字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-3474.2012.02.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘善喜
5
12
2.0
3.0
2
汪继芳
3
12
2.0
3.0
3
简崇玺
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2012(0)
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二级引证文献(0)
2019(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
双面PSD
双面光刻
氧化
扩散
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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