硅和氟对人恒前磨牙釉质脱矿影响的体外研究

• 作者: 刘振华 宫艳红 王铎
• 来源期刊: 牙体牙髓牙周病学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 硅 氟 釉质 脱矿 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 154-156,160
• 页数: 4页
• 分类号: R780.2
• 语种: 中文

摘要

目的:评价硅、氟对离体恒前磨牙釉质脱矿的影响.方法:收集123个正畸拔除的恒前磨牙,制备釉质标本,随机分为对照组、1 mg/L硅(si)组、1 mg/L氟(F)组,每组41个.将3组标本分别置去离子水、1 mg/L硅溶液、1 mg/L氟溶液预处理8h、取出标本浸泡于酸蚀凝胶中,随后测定脱矿后7个时间点凝胶中的钙溶出量；并用扫描电镜观察24、168 h脱矿釉质表面超微结构变化.结果:不同脱矿时间,Si组钙溶出量与对照组相比无统计学差异(P＞0.05)；F组钙溶出量低于Si组和对照组,有统计学差异(P＜0.05)；扫描电镜观察各组釉质表面随脱矿时间的延长呈现进行性破坏现象,F组表面破坏程度最轻,168 h后3组蜂窝结构底部均见球状沉积物,Si组沉积物数目较F组多.结论:在体外条件下,1 mg/L Si溶液对前磨牙釉质无明显抑制脱矿作用,1 mg/L F溶液则可明显抑制釉质的脱矿.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王铎		45	151	8.0	9.0
2	宫艳红		5	14	2.0	3.0
3	刘振华		1	0	0.0	0.0