[NiFe/Cu/Co/Cu]_n纳米多层线的电化学制备及表征

• 作者: 姚素薇 张卫国 王宏智 谢仁鑫
• 来源期刊: 化学学报
• 学科: 工学
• 关键词: [NiFe/Cu/Co/Cu]n 纳米多层线 电化学 表征
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1-5
• 分类号: TB383
• 语种: 中文

摘要

采用电沉积法,在阳极氧化铝（AAO）模板中制备了[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线.利用扫描电子显微镜（SEM）及透射电子显微镜（TEM）对纳米多层线的表面形貌及结构进行了表征,纳米线阵列高度有序、直径均一、层状结构清晰,NiFe层厚度约40 nm,Cu层厚度约60 nm,Co层厚度约15 nm,各子层厚度可控.利用X射线能谱分析仪（EDS）对纳米多层线NiFe层的成分进行了测试,Ni,Fe的原子比为4∶1.利用X射线衍射仪（XRD）对[NiFe/Cu/Co/Cu]n纳米多层膜和多层线结构进行了测试,多层膜为面心立方（fcc）结构,多层线NiFe层为面心立方（fcc）结构,Cu层为六方密排hcp（100）,Co层为面心立方（fcc）结构.与组成、结构完全相同的多层膜相比,[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线具有更优越的巨磁电阻性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宏智	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	93	1077	20.0	28.0
2	张卫国	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	137	1608	22.0	33.0
3	姚素薇	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	159	2047	26.0	36.0
4	谢仁鑫	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	3	5	2.0	2.0