ECR结合中频磁控溅射制备掺Cu类金刚石膜工艺及性能研究

• 作者: 佘博西 刘锐森 李书昌 汤皎宁 谷坤明
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石膜 电子回旋共振 中频磁控溅射 气相沉积
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 57-61
• 分类号: O484
• 字数: 3527字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2012.04.013

摘要

为改善DLC膜的内应力及导热问题,采用ECR微波等离子体化学气相沉积及中频磁控溅射的方法制备掺Cu类金刚石膜,研究溅射电流对薄膜中Cu含量、薄膜表面形貌、结构及机械性能的影响.结果表明:改变溅射电流能有效地控制类金刚石膜中金属含量,拉曼光谱显示,制备的薄膜为典型的类金刚石薄膜结构；Cu的掺入使得类金刚石膜的硬度和耐磨损性能下降,但在一定溅射电流下可得到薄膜结构及机械性能均较好的掺Cu类金刚石膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤皎宁	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	93	614	13.0	20.0
2	佘博西	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	1	4	1.0	1.0
3	李书昌	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	1	4	1.0	1.0
4	谷坤明	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	20	98	6.0	9.0
5	刘锐森	深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室	2	7	2.0	2.0