硅系延期药的共沉淀法制备及其性能

• 作者: 乔小晶 任庆国 彭晨光 李旺昌
• 来源期刊: 含能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 军事化学 共沉淀 延期时间 延期精度 硅系延期药
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 409-413
• 分类号: TJ55|TJ455
• 字数: 3211字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-9941.2012.04.006

摘要

采用共沉淀法和手工混药法制备了硅系延期药,通过扫描电子显微镜( SEM)、能谱分析(EDS)及X-射线粉末衍射(XRD)分析显示:在共沉淀过程中有BaSO4和(BaPb) SO4的生成,并实现了对硅粉Si和Pb3O4的部分包覆.在60 MPa压力下将一定量延期药和适量点火药装入外径为5 mm的铁制延期管内,采用光电法对延期时间进行测试,结果表明:共沉淀法制备的延期药的平均燃速为1.25 mm·s-1,手工混合制备的延期药的平均燃速为1.41 mm·s-1;共沉淀法制备的延期药的延期精度明显高于手工混制的,前者燃速的标准差0.073,后者的为0.25.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乔小晶	北京理工大学机电学院	77	699	14.0	23.0
2	任庆国	北京理工大学机电学院	7	28	3.0	5.0
3	李旺昌	北京理工大学机电学院	7	39	5.0	6.0